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真空等離子清洗機(jī)

真空等離子清洗機(jī)

  • 產(chǎn)品介紹:等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài),并不屬于常見(jiàn)的固、液、氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。VPC100M真空等離子清洗機(jī)就是利用等離子體的活性組分的性質(zhì)來(lái)處理塑膠工件,金屬基工件,陶瓷、玻璃等工件表面,從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性等目的。
  • 產(chǎn)品型號(hào):VPC100M
  • 更新時(shí)間:2024-09-06
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 產(chǎn)品品牌:貝拓科學(xué)
  • 產(chǎn)品廠地:廣州市
  • 訪問(wèn)次數(shù):896
  • 在線留言 4006681210

產(chǎn)品介紹

品牌貝拓科學(xué)價(jià)格區(qū)間5萬(wàn)-10萬(wàn)
控制方式手動(dòng)功率1000W
氣路2路樣品腔材質(zhì)不銹鋼
樣品腔容積10L射頻頻率13.56MHZGhz
產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,能源,建材,電子,汽車

等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài),并不屬于常見(jiàn)的固、液、氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。VPC100M真空等離子清洗機(jī)就是利用等離子體的活性組分的性質(zhì)來(lái)處理塑膠工件,金屬基工件,陶瓷、玻璃等工件表面,從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性等目的。


工作原理:

等離子清洗機(jī)通過(guò)在高真空環(huán)境中形成等離子體,利用離子轟擊的方式清潔工件表面。在真空環(huán)境中,通過(guò)加入工作氣體并加熱產(chǎn)生等離子體,離子轟擊工件表面,剝離附著的污染物。此過(guò)程高效、無(wú)污染、無(wú)殘留。

真空等離子清洗機(jī)*的清潔效果,成為現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)的利器。它不僅能夠提高產(chǎn)品質(zhì)量,延長(zhǎng)使用壽命,還能提高生產(chǎn)效率,降低環(huán)境污染。


儀器特點(diǎn):

● 不銹鋼腔體,具有良好的耐用性

● 電極板上下可調(diào),適應(yīng)各種大小的樣品

● 一鍵啟停,人性化設(shè)計(jì),簡(jiǎn)單易學(xué)

● 結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,密封性好

● 無(wú)材料二次污染和環(huán)境污染,效率大大高

● 采用13.56MHz射頻電壓,完成清洗去污的同時(shí),還可以改善材料本身的表面性能

● 觸摸按鍵,液晶顯示屏+雙浮子流量計(jì)精準(zhǔn)控制,經(jīng)濟(jì)實(shí)用


應(yīng)用領(lǐng)域:

● 半導(dǎo)體元件、印刷線路板的清洗、改性

● 高分子材料表面修飾

● 生物芯片、微流控芯片的清洗

● 各種形狀的人工晶體、ATR元件、天然晶體和寶石清洗

● 光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片的清洗

● 各種陶瓷、金屬基片上的殘留凝膠等雜質(zhì)的清洗

● 芯片、電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片等的清洗

● 各種醫(yī)療器材和儀器的清洗


技術(shù)參數(shù):

腔體材質(zhì)

316不銹鋼

容積10L
電極板平板水浴電極
電極專用鋁電極,上下間距可調(diào)
單次處理時(shí)間工藝不同,處理時(shí)間不同,表面活化改性5~10分鐘內(nèi)
工作真空度20~60Pa
真空泵極限壓力0.5Pa(空載測(cè)試)
抽真空時(shí)間≤40秒(空載測(cè)試)
破真空時(shí)間≤20秒
等離子發(fā)生器采用13.56MHz射頻電源,功率0-300W可調(diào),射頻電源和阻抗器模塊化設(shè)計(jì)
供氣方式電磁閥式
流量計(jì)控制雙浮子流量計(jì)
流量計(jì)調(diào)節(jié)范圍0~300ml/mi(可選)
流量計(jì)精度4%
操作方式人工取放工件,一鍵啟動(dòng)自動(dòng)控制
額定功率1kw
機(jī)臺(tái)供電AC-220V
機(jī)臺(tái)重量≈130Kg



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